반응형 반도체15 반도체 식각 공정 반도체 식각 공정은 반도체 제조 공정 중 하나로, 반도체 소자에 원하는 패턴을 형성하기 위해 필요한 과정입니다. 이러한 공정은 광학적 또는 화학적 방법으로 이루어지며, 고도의 정밀성과 반복성이 요구됩니다. 핵심 개념 패턴 전송: 식각 공정은 사전에 디자인된 패턴을 반도체 웨이퍼 위로 전송하는 과정입니다. 이는 미세한 선이나 홀, 슬릿과 같은 구조를 원하는 위치에 정확하게 형성하는 것을 의미합니다. 패턴 형성: 광학적 또는 화학적 방법을 사용하여 반도체 표면에 패턴을 형성합니다. 광학식 식각에서는 레이저나 UV 빛을 사용하여 미세한 구조를 형성하고, 화학식 식각에서는 산화나 에칭 과정을 통해 반도체를 부식하여 패턴을 형성합니다. 광학식 식각 공정 마스크: 광학식 식각에서는 먼저 마스크가 필요합니다. 마스크.. 2024. 2. 11. 팹리스(Fabless) 기업과 파운더리(Foundry) 팹리스(Fabless) 기업과 파운더리(Foundry)는 반도체 산업에서 다른 역할을 수행하는 두 가지 유형의 기업입니다. 아래에는 두 기업의 특징과 차이점을 비교하겠습니다. 1. 팹리스 기업 (Fabless Company) 팹리스 기업은 반도체 설계와 마케팅에 집중하고 있습니다. 주로 반도체 소자의 설계와 특허 보유에 집중하며, 제조 공정은 외부 파운더리에 위탁합니다. 예를 들어, Qualcomm, NVIDIA, AMD 등이 팹리스 기업에 해당합니다. 팹리스 기업은 R&D에 집중하여 반도체 기술의 혁신을 이끌고 있습니다. 2. 파운더리 (Foundry) 파운더리는 반도체 생산에 특화된 기업으로, 주로 반도체를 생산하는 공장입니다. 다양한 고객사로부터 디자인된 반도체 제품의 대량 생산을 수행합니다. 대표.. 2024. 2. 9. 반도체 공정 반도체 공정은 반도체 제조 공정을 의미합니다. 이는 전자기기에 사용되는 다양한 반도체 소자들을 만드는 과정을 말합니다. 이러한 반도체 공정은 매우 복잡하고 정교한 과정으로 이루어져 있습니다. 아래에서는 전형적인 반도체 공정의 주요 단계와 각 단계에서 사용되는 기술에 대해 설명하겠습니다. 기판 제조 (Substrate Manufacturing) 반도체 공정의 첫 번째 단계는 실리콘 기판 또는 웨이퍼를 제조하는 것입니다. 실리콘 당화 공정을 통해 실리콘 기판을 만들고, 그 후에 평탄도를 개선하기 위해 연마 및 광택 처리가 이루어집니다. 화학기상증착 (Chemical Vapor Deposition, CVD) 화학기상증착은 기판 위에 반도체 소자의 층을 형성하는 과정입니다. 이 과정에서 기체 상태의 성분들이 화.. 2024. 2. 8. 이전 1 2 3 다음 반응형